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  • 新工艺 石墨烯改性硅基负极材

  • 发布时间:2019/6/10 9:24:55
  • 有效期:长期供应

 

规  格: CMD2000 包装规格: 木箱
价  格: 1 供应地点: 上海

产品详细说明
公司介绍

新工艺 石墨烯改性硅基负极材料研磨分散机 ,新型负极材料研磨分散机,硅碳负极材料研磨分散机,超高速纳米研磨分散机,硅基材料复合碳纳米管研磨分散机


IKN研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到全方位的清洗。


已经广泛商业化的石墨负极材料。这类材料的特点是,在充放电过程中,锂离子从材料主体脱出和嵌入,而材料基本结构不发生改变。因此,这类材料大多循环性能优异。在新型碳负极方面,未来的发展将主要集中在高功率石墨类负极及非石墨类高容量碳负极,以满足未来动力和高能电池的需求。新型碳材料:如碳纳米管(CNT)石墨烯

理论上,硅与Li的插入化合物放电比容量可达到4200mA?h/g,作为锂离子电池负极材料非常有吸引力。然而硅在充放电过程中存在较大的体积变化,从而导致材料的容量衰减较快,电池的循环性能很差。所以需要对Si进行改性,提高硅基负极材料的电化学性能,主要的改进方法一般采用表面处理、多相掺杂、形成硅化物等在硅基材料中,未来x有潜力的是硅基薄膜负极和硅的复合材料,薄膜的厚度和材料的制备方法对硅基薄膜负极的容量有着较大影响。只要增加薄膜的厚度就可提供足够的活性材料,
如何把纳米材料和微米材料均相分散是客户需要解决的问题
如何 普通的分散机难以解决这个问题,需要行新工艺 新设备

硅碳复合材料难点在于:1、 颗粒细化,粒径分布范围集中 2、分散稳定



石墨烯改性硅基负极材料研磨分散机 新设备特点:


1、由于石墨烯的特性,石墨烯分散到液体介质当中,容易形成团聚。上海依肯研磨式分散机可以很好的解决这一问题,“胶体磨+分散机”的独特结构,一级研磨模块可以将团聚体研磨打开,第二级分散模块再瞬间对物料进行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。

2、石墨烯是超细粉体,所以需要强大的作用对其进行分散,传统分散设备转速一般不足3000rpm,难以分散。而IKN研磨分散机转速高达21000rpm,剪切速率高,可以充分的将石墨烯分散到液体介质当中。

3、IKN研磨分散机采用管线式分体式结构,物料从进口进入设备工作腔中,进行处理,然后再从出口打出,物料可以得到充分剪切细化分散,产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产,满足大工业化生要求。


上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题,其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料,碳纤维等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨(锥体磨)分散头的组合,可以先将物料(配入溶剂和分散剂)研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

.CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。


CMSD 2000系列石墨烯改性硅基负极材料研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm


线速度

m/s


功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%



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主营产品:乳化机, 胶体磨, 均质机, 混合机, 分散机, 真空乳化机, 高剪切乳化机, 乳化泵, 管线式乳化机, , , , , , ,
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